單輥多腔體磁控卷繞真空鍍膜機(jī)

產(chǎn)品詳情

設(shè)備簡(jiǎn)述：TS-JRC系列單輥多腔卷繞鍍膜機(jī)。此機(jī)型為標(biāo)準(zhǔn)型的多層膜卷繞鍍膜機(jī)，是一款適用性強(qiáng)、性?xún)r(jià)比高和技術(shù)成熟度高的連續(xù)鍍膜設(shè)備。多達(dá)6個(gè)陰極靶位，12支靶的安裝位置可以實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜的鍍膜工藝。

設(shè)備應(yīng)用：適用于在柔性基材如：PET/PEN/PI/PC/PE等有機(jī)薄膜或紙、布、海綿、金屬卷材、超薄玻璃等柔性材料表面采用磁控濺射工藝沉積Cu、Ag、Cr、Ni、Au、Si、ITO、C等導(dǎo)電膜或者NiCr、NiCu、InSn等合金膜或者SiO₂、Nb₂O₅、Al₂O₃等介質(zhì)膜的單層或多層功能性或裝飾性膜層。鍍膜的產(chǎn)品可以應(yīng)用在ITO透明導(dǎo)電膜、汽車(chē)/建筑窗膜、AR膜、彩色膜、高反射膜、透明高阻隔膜、電磁屏蔽膜和薄膜太陽(yáng)能電池電極等等領(lǐng)域。在汽車(chē)、觸摸屏、平板顯示、薄膜太陽(yáng)能電池、鋰電池、柔性線(xiàn)路板、建筑節(jié)能等產(chǎn)業(yè)中有著廣泛的用途。

設(shè)備特點(diǎn)：設(shè)備收卷、放卷、鍍膜分別在不同的真空室內(nèi)。裝、卸料時(shí)鍍膜室可保持真空狀態(tài)，大大提高了生產(chǎn)效率和更好保證了鍍膜重復(fù)性和穩(wěn)定性。設(shè)備采用磁控濺射鍍膜方式，可配置旋轉(zhuǎn)或者平面濺射陰極，匹配直流或者用于反應(yīng)濺射的中頻磁控濺射電源。腔室間隔氣良好，適合多層膜的鍍制工藝。這款機(jī)型具有產(chǎn)能大、穩(wěn)定性強(qiáng)、重復(fù)性?xún)?yōu)、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)。可根據(jù)工藝要求加配：在線(xiàn)光學(xué)檢測(cè)或電阻檢測(cè)系統(tǒng)、閉環(huán)鍍膜監(jiān)控系統(tǒng)等裝置，以滿(mǎn)足更高要求的鍍膜工藝。